気化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993170804
Publication number (International publication number)：1994346243
Application date： Jun. 03, 1993
Publication date： Dec. 20, 1994
Summary：

【要約】【目的】液体原料を用いるCVD法では液体原料を気化する方法としてバブラー法が用いられる。しかし、このバブラー法では比較的蒸気圧の高い液体原料は気化できるが、蒸気圧が低く、粘性の高い液体原料は気化し難い。したがって、このような液体原料も容易に気化できると同時に、昇華性の固体原料も気化できる新規な気化装置を提供することを目的とする。【構成】気密容器内に、蒸発皿と、キャリアガス導入口と、蒸発皿から気化した原料ガスとキャリアガスとをCVD反応室に移送する導管とを備え、液体原料あるいは固体原料を蒸発皿に供給する供給装置と蒸発皿を加熱する加熱装置とを備えた気化装置である。

Claim (excerpt)：

気密容器内に、蒸発皿と、キャリアガス導入口と、蒸発皿から気化した原料ガスとキャリアガスとをCVD反応室に移送する導管とを備え、液体原料を蒸発皿に供給する供給装置と蒸発皿を加熱する加熱装置とを備えた気化装置において、蒸気圧の低い液体原料を気化することを特徴とする気化装置。

IPC (2)：

C23C 16/44 , H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

酸化物超電導体製造用CVD原料の気化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-222267 Applicant：株式会社フジクラ, 中部電力株式会社
特開昭60-130820
有機金属化合物の粉末供給装置および気化供給装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-113444 Applicant：松下電器産業株式会社

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