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J-GLOBAL ID：200903059516642475

エッチング方法及びエッチング装置

Inventor： 松倉 祐輔
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 柏谷 昭司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998363924
Publication number (International publication number)：2000188282
Application date： Dec. 22, 1998
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】 エッチング方法及びエッチング装置に関し、矩形波を用いずに高周波電力を変調することによって、放電を安定に維持しながら、精度良くエッチング速度を制御する。【解決手段】 放電を励起するための高周波電力を三角波状の信号によって変調し、この三角波状の信号の繰り返し周波数を調整して、原料ガス1のプラズマ放電による被エッチング物2のエッチング速度を調整して、エッチングを行う。

Claim (excerpt)：

原料ガスのプラズマ放電によって被エッチング物のエッチングを行うエッチング方法において、放電を励起するための高周波電力を三角波状の信号によって変調し、前記三角波状の信号の繰り返し周波数を調整して、エッチング速度を調整することを特徴とするエッチング方法。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/338 ,  H01L 29/812

FI (3)：

H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 E ,  H01L 29/80 F

F-Term (30)：

4K057DA16 ,  4K057DB11 ,  4K057DD01 ,  4K057DE01 ,  4K057DE04 ,  4K057DE06 ,  4K057DE08 ,  4K057DG15 ,  4K057DM01 ,  4K057DM18 ,  4K057DM20 ,  4K057DM28 ,  4K057DN01 ,  5F004BA04 ,  5F004BA14 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004CA03 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA11 ,  5F004DA13 ,  5F004DA18 ,  5F004DB20 ,  5F102GB01 ,  5F102GC01 ,  5F102GD01 ,  5F102GJ05 ,  5F102GR04 ,  5F102HC16