Pat

J-GLOBAL ID：200903059522094951

レーザ繰り返し率増倍器

Inventor： カッツィール・イガル ,  クリング・ボリス ,  フェンスター・ポール ,  グロス・アヴラハム
Applicant, Patent owner： オルボテック リミテッド
Agent (1)： 松岡 修平
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000566933
Publication number (International publication number)：2002523905
Application date： Aug. 20, 1998
Publication date： Jul. 30, 2002
Summary：

【要約】高繰り返し率光学的パルスを生成する装置であって、初期パルス繰り返し率を有する初期パルス光ビームを生成するジェネレータと、前記初期パルス光ビームを受容して前記初期率よりも高いパルス繰り返し率を有する少なくとも1つのパルス光ビームを生成するパルス繰り返し率増倍器と、を含む装置。

Claim (excerpt)：

高繰り返し率光学的パルス生成装置であって、 初期パルス繰り返し率を有する初期パルス光ビームを生成するビームジェネレータと、 前記初期パルス光ビームを受けて、そして、前記初期パルス繰り返し率よりも高いパルス繰り返し率を有する少なくとも1つのパルス光ビームを生成するパルス繰り返し率増倍器と、を含む装置。

IPC (4)：

H01S 3/10 ,  G02B 27/10 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/027

FI (4)：

H01S 3/10 Z ,  G02B 27/10 ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 529

F-Term (23)：

2H097AA03 ,  2H097CA00 ,  2H097CA06 ,  2H097CA08 ,  2H097CA12 ,  2H097CA17 ,  2H097LA09 ,  5F046BA07 ,  5F046CA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB07 ,  5F046CB12 ,  5F046CB22 ,  5F072AA02 ,  5F072HH03 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ07 ,  5F072MM07 ,  5F072RR01 ,  5F072RR05 ,  5F072SS06 ,  5F072YY08