反射防止膜、その製造方法、反射防止膜製造用スタンパ、その製造方法、スタンパ製造用鋳型及びその製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：梶山佶是 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001233503
Publication number (International publication number)：2003043203
Application date： Aug. 01, 2001
Publication date： Feb. 13, 2003
Summary：

【要約】【課題】任意のサイズの反射防止膜及びその反射防止膜を安価に大量生産する方法を提供することである。【解決手段】光透過性プラスチック基体の少なくとも一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であることを特徴とする反射防止膜。この反射防止膜は、Ni基体の一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であるスタンパを用いて光透過性プラスチック樹脂を型押しするか、又はこのスタンパにプラスチック樹脂をキャスティングすることによりスタンパの表面形状が転写された任意のサイズの光透過性プラスチック反射防止膜を安価に大量生産することができる。

Claim (excerpt)：

光透過性プラスチック基体の少なくとも一方の表面に、微細な凹凸を有し、前記凹凸の周期が35nm〜400nmの範囲内であり、かつ、前記凹凸の深さが100nm〜700nmの範囲内であることを特徴とする反射防止膜。

IPC (11)：

G02B 1/11 , B29C 33/38 , B29C 33/42 , B29C 45/37 , B32B 3/30 , B32B 7/02 103 , G02B 5/02 , B29K 23:00 , B29K 33:04 , B29K 69:00 , B29L 11:00

FI (11)：

B29C 33/38 , B29C 33/42 , B29C 45/37 , B32B 3/30 , B32B 7/02 103 , G02B 5/02 B , B29K 23:00 , B29K 33:04 , B29K 69:00 , B29L 11:00 , G02B 1/10 A

F-Term (70)：

2H042BA03 , 2H042BA13 , 2H042BA15 , 2H042BA20 , 2K009AA12 , 2K009BB01 , 2K009CC03 , 2K009CC09 , 2K009CC14 , 2K009CC21 , 2K009CC24 , 2K009CC34 , 2K009CC42 , 2K009DD03 , 2K009DD12 , 2K009DD15 , 4F100AA19D , 4F100AA19E , 4F100AB10D , 4F100AB10E , 4F100AB16D , 4F100AB24D , 4F100AB24E , 4F100AK01A , 4F100AK03A , 4F100AK25A , 4F100AK45A , 4F100AK52D , 4F100AK52E , 4F100AR00B , 4F100AR00C , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100BA03 , 4F100BA04 , 4F100BA05 , 4F100BA06 , 4F100BA07 , 4F100BA10A , 4F100BA10B , 4F100BA10C , 4F100BA10D , 4F100BA10E , 4F100DD07B , 4F100DD07C , 4F100EH36 , 4F100EH362 , 4F100GB41 , 4F100JN01A , 4F100JN06 , 4F100YY00B , 4F100YY00C , 4F202AA03 , 4F202AA21 , 4F202AA28 , 4F202AF01 , 4F202AG01 , 4F202AG05 , 4F202AG26 , 4F202AH73 , 4F202AJ02 , 4F202AJ09 , 4F202AR13 , 4F202CA11 , 4F202CB01 , 4F202CD02 , 4F202CD24 , 4F202CD30 , 4F202CK11 , 4F202CK43

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