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J-GLOBAL ID：200903059541560521

写真廃液の処理方法

Inventor： 石塚 弘 ,  高橋 敦子
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991204638
Publication number (International publication number)：1993023696
Application date： Jul. 22, 1991
Publication date： Feb. 02, 1993
Summary：

【要約】【目的】環境汚染することなく、有効に写真廃液を無害化する。【構成】写真廃液を、100〜370°C、液相下で湿式酸化処理後、生物酸化処理する。

Claim (excerpt)：

写真廃液について、下記(A)、(C)の順に処理を行なうことを特徴とする写真廃液の処理方法。(A)100〜370°Cの温度かつ該廃液が液相を保持する圧力に保ちつつ酸素含有ガスの供給下に湿式酸化処理行なう(工程A)。(C)工程Aを経た処理水について、生物酸化処理を行なう(工程C)。

IPC (9)：

C02F 9/00 ,  C02F 1/66 ,  C02F 1/74 101 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/08 ,  C02F 3/34 ,  G03C 5/00 ,  C02F 1/56 ,  C02F 3/12