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J-GLOBAL ID：200903059553113628

フォトレジスト用酸化チタン微粉末、およびそれを使用するフォトレジスト用組成物

Inventor： 丸尾 正剛 ,  匠 伸祐 ,  森部 輝和
Applicant, Patent owner： 石原産業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991360934
Publication number (International publication number)：1993163021
Application date： Dec. 13, 1991
Publication date： Jun. 29, 1993
Summary：

【要約】【目的】半導体素子や集積回路構成、さらにはオフセット印刷製版等の作製におけるフォトレジストパターン加工に有用な酸化チタン微粉末およびそれを含有してなるフォトレジスト用組成物を提供する。【構成】平均粒子径が0.005〜0.2μmでかつ粒子表面のOH基が0.2〜20ミリモル/gであるフォトレジスト用酸化チタン微粉末および、それをノボラック樹脂等の感光性樹脂に対して0.05〜20重量%含有させることからなるフォトレジスト用組成物。

Claim (excerpt)：

平均粒子径が0.005〜0.2μmでかつ粒子表面のOH基が0.2〜20ミリモル/gであるフォトレジスト用酸化チタン微粉末。

IPC (5)：

C01G 23/047 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027