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J-GLOBAL ID:200903059561961514

被膜の被覆方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大野 精市
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000077379
Publication number (International publication number):2001262335
Application date: Mar. 21, 2000
Publication date: Sep. 26, 2001
Summary:
【要約】【課題】低温の基体に、原子配列が規則的にある程度配列したいわゆる結晶性の被膜を被覆することは困難であった。このため光触媒活性を有する光触媒膜は基体を加熱する必要があった。【解決手段】減圧した雰囲気が調整できる成膜装置内で、スパッタリングカソードに貼りつけたターゲット材料をスパッタして基体にターゲット材料の成分を含む被膜を被覆する方法であって、スパッタした粒子を、基体に到達させる前に基体表面に略平行なシート形状に形成したアーク放電プラズマ中を通過させて活性化させる。チタン金属をターゲットに用いて、基体を加熱することなく酸化チタンの光触媒膜を被覆することができる。
Claim (excerpt):
減圧した雰囲気が調整できる成膜装置内で、スパッタリングカソードに貼りつけたターゲット材料をスパッタして基体にターゲット材料の成分を含む被膜を被覆する方法であって、前記スパッタした粒子を、基体に到達させる前に前記基体表面に略平行なシート形状に形成したアーク放電プラズマ中を通過させて活性化することを特徴とする被膜の被覆方法。
IPC (3):
C23C 14/34 ,  B01J 37/02 301 ,  B01J 37/34
FI (3):
C23C 14/34 S ,  B01J 37/02 301 P ,  B01J 37/34
F-Term (21):
4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069DA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EC22X ,  4G069EC22Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB02 ,  4G069FC06 ,  4K029BA48 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC16 ,  4K029DC27 ,  4K029EA09

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