Pat

J-GLOBAL ID：200903059576238088

補正テーブルの作成装置及び作成方法、補正テーブル用マスクパターンの作成装置及び作成方法、微細加工用マスクパターンの作成装置及び作成方法、並びに微細加工パターンの形成方法

Inventor： 菊地 晃司
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 舘野 千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001118465
Publication number (International publication number)：2002311563
Application date： Apr. 17, 2001
Publication date： Oct. 23, 2002
Summary：

【要約】【課題】 プロセス近接効果をルールベースで正確に補正することが可能な補正テーブルの作成装置及び作成方法、補正テーブル用マスクパターンの作成装置及び作成方法、微細加工用マスクパターンの作成装置及び作成方法、並びに微細加工パターンの形成方法を提供することを目的とする。【解決手段】 サンプル用のゲート線幅を測定し、ゲート線幅及びパターン間スペースをパラメータとするパターン形状毎にターゲット線幅に最も近いゲート線幅A及び対応する補正テーブル用マスクのゲートパターン線幅Bを求め(S2)、ゲート線幅Aとターゲット線幅Tとの差から微細加工用マスクのゲートパターンにバイアスする補正量aを算出し(S3)、パターン形状毎に算出したMEFを考慮しつつゲート線幅Aとターゲット線幅Tとの差から追加補正量bを算出し(S4)、この追加補正量bを補正量aに加えてパターン形状毎に最終補正量cを算出する(S5)。

Claim (excerpt)：

微細加工用マスクパターンについて、フォトリソグラフィ及びエッチング工程により微細加工パターンを形成する際に生じるプロセス近接効果をルールベースで補正する補正テーブルの作成装置であって、所定の補正テーブル用マスクを用いて形成したサンプル用の微細加工パターンの測定結果に基き、所定のターゲットパターン幅に最も近い微細加工パターン幅及び該微細加工パターン幅に対応するマスクパターン幅のデータを、所定のパターン形状毎に入力するサンプル測定データ入力部と、前記サンプル測定データ入力部に入力した前記マスクパターン幅の前記ターゲットパターン幅からのずれ量を、所定のパターン形状毎に補正量として算出する補正量算出部と、前記補正テーブル用マスクのマスクパターン幅の変動量に対する微細加工パターン幅の変動量の比を、所定のパターン形状毎にマスクエラー増大係数として算出するマスクエラー増大係数算出部と、前記サンプル測定データ入力部に入力した前記ターゲットパターン幅と前記微細加工パターン幅とのずれ量を、前記マスクエラー増大係数算出部において算出したマスクエラー増大係数で割算して、所定のパターン形状毎に追加補正量を算出する追加補正量算出部と、前記補正量算出部において算出した補正量に前記追加補正量算出部において算出した追加補正量を加えて、所定のパターン形状毎に最終補正量を求める最終補正量算出部と、を有することを特徴とするマスクパターンの補正テーブル作成装置。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 516 Z

F-Term (7)：

2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36 ,  2H095BD03 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA11