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J-GLOBAL ID：200903059610581773

基板処理装置

Inventor： 上山 勉
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996191883
Publication number (International publication number)：1998041269
Application date： Jul. 22, 1996
Publication date： Feb. 13, 1998
Summary：

【要約】【課題】 複数種類の処理液を分離して回収することができるとともに、カップ内の処理液雰囲気を速やかに排気解消してカップ内を清浄雰囲気にすることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板Wを回転保持するスピンチャック10と、廃液回収用のカップ13との間に、回転可能な廃液案内機構20を配備する。カップ13は内側に薬液廃液用カップ17を、外側にリンス液廃液用カップ18をそれぞれ備える。薬液処理時には、廃液案内機構20を低速回転させることにより薬液廃液をカップ17に導き、洗浄処理時には、廃液案内機構20を高速回転させることによりリンス液廃液をカップ18に導く。廃液案内機構20を回転駆動することにより、カップ13内の薬液雰囲気が強制排気される。

Claim (excerpt)：

基板に所定の処理を行なう基板処理装置において、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段を回転駆動する第1の回転駆動手段と、前記基板保持手段に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給手段と、前記基板保持手段の周囲を囲むように複数個配置され、基板の回転に伴って飛散した処理液を種類に応じて回収するカップと、前記基板保持手段と同軸周りに回転可能に配置され、基板の回転に伴って飛散した処理液を前記カップ側へ案内する傾斜案内板を備えた処理液案内手段と、前記処理液案内手段を回転駆動する第2の回転駆動手段と、前記第2の回転駆動手段の回転速度を処理液の種類に応じて変える制御手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  B04B 3/00

FI (4)：

H01L 21/306 J ,  H01L 21/304 341 N ,  B04B 3/00 Z ,  H01L 21/30 569 C