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J-GLOBAL ID：200903059643160030

転写用シート

Inventor： 五十嵐 一雅 ,  伊香 和夫
Applicant, Patent owner： 日東電工株式会社
Agent (1)： 西藤 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995123989
Publication number (International publication number)：1996311415
Application date： May. 23, 1995
Publication date： Nov. 26, 1996
Summary：

【要約】【目的】半導体素子裏面に散点状に分布するポリイミド皮膜を形成するための転写用シートを提供する。【構成】基材シート20aのシート面に、加熱発泡剤を含有する接着層20bが形成され、この接着層20bの表面にポリイミドおよびポリイミド前駆体の少なくとも一つから形成された皮膜4aが散点状に付着している転写用シート。

Claim (excerpt)：

基材シートのシート面に加熱発泡剤を含有する接着層が形成され、この接着層の表面に、ポリイミドおよびポリイミド前駆体の少なくとも一つから形成された皮膜が散点状に付着されていることを特徴とする転写用シート。

IPC (6)：

C09J 7/02 JKJ ,  C09J 7/02 JKD ,  C09J 7/02 JKN ,  C08G 73/10 NTF ,  C09J179/08 JGE ,  H01L 21/56

FI (6)：

C09J 7/02 JKJ ,  C09J 7/02 JKD ,  C09J 7/02 JKN ,  C08G 73/10 NTF ,  C09J179/08 JGE ,  H01L 21/56 T