Pat

J-GLOBAL ID：200903059676863850

感光性組成物及びパターンの製造方法

Inventor： 今井 玄児 ,  岩沢 直純 ,  山岡 亜夫
Applicant, Patent owner： 関西ペイント株式会社
Agent (1)： 小田島 平吉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993105905
Publication number (International publication number)：1994295064
Application date： Apr. 09, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フオトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法を提供する。【構成】 A)カルボキシル基を必須成分として含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの製造方法。

Claim (excerpt)：

A)カルボキシル基を含有する重合体、B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00

FI (2)：

H01L 21/30 301 R ,  H01L 21/30 361 L

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平4-330445
  
• 特開平1-106038
  
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-259431   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-259433   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-303512   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310147   Applicant：日東電工株式会社
• 特開昭55-012995