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J-GLOBAL ID：200903059721241050

アンモニア含有排水の浄化方法及び装置

Inventor： 吉川 博文 ,  高本 成仁 ,  中本 隆則
Applicant, Patent owner： バブコック日立株式会社
Agent (1)： 松永 孝義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000243466
Publication number (International publication number)：2002052381
Application date： Aug. 10, 2000
Publication date： Feb. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】 排水中のNH3濃度やストリッピング塔への排水の供給量が変動しても触媒塔出口でのN2O濃度が高くならず、有害物質の発生量が極めて少ないアンモニア含有排水の処理方法と装置を提供すること。【解決手段】 NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排水からNH3を気相中に移行させた後NH3を含むガスを加熱し、加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させてNH3を窒素と水に分解する。該分解工程で発生したガス中のN2O濃度が所定の範囲になるように触媒層でのガス流量を調整する工程又は触媒層でのガスの接触時間を調整する工程のいずれかの調整工程を含むNH3含有排水を無害化する方法である。

Claim (excerpt)：

アンモニア(NH3)含有排水中の前記NH3を無害化するNH3含有排水の浄化方法において、前記NH3含有排水とキャリアガスを接触させてNH3含有排水からNH3を気相中に移行させる工程と、該NH3を気相中に移行させる工程で発生したNH3を含むガスを加熱する工程と、該加熱工程で加熱されたNH3含有ガスを触媒に接触させて前記NH3を窒素と水に分解する工程と、該分解工程で発生したガス中のN2O濃度が所定の範囲になるように触媒層でのガス流量を調整する工程又は触媒層でのガスの接触時間を調整する工程のいずれかの調整工程を含むことを特徴とするNH3含有排水の浄化方法。

IPC (3)：

C02F 1/20 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/652

FI (3)：

C02F 1/20 ZAB B ,  B01D 53/36 E ,  B01J 23/64 103 M

F-Term (53)：

4D037AA13 ,  4D037AB12 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D048AA08 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048AB03 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA11Y ,  4D048BA23X ,  4D048BA23Y ,  4D048BA26Y ,  4D048BA27X ,  4D048BA27Y ,  4D048BA30X ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA04A ,  4G069BA07A ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC50A ,  4G069BC50B ,  4G069BC54A ,  4G069BC54B ,  4G069BC59A ,  4G069BC60A ,  4G069BC60B ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC74A ,  4G069BC75A ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CB81 ,  4G069DA06 ,  4G069FA02 ,  4G069FB15 ,  4G069FB16 ,  4G069FB17 ,  4G069FB19 ,  4G069FB20 ,  4G069FB30 ,  4G069FB66