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J-GLOBAL ID:200903059756648721

セラミック焼結体およびそれを用いた配線基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000396297
Publication number (International publication number):2002053369
Application date: Dec. 26, 2000
Publication date: Feb. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】銀、銅、金等の低抵抗金属、なかでも銀と同時焼成が可能であり、高熱伝導率、低誘電率を有し、且つ高強度を有するセラミック焼結体を得る。【解決手段】絶縁基板1と、その表面および/または内部に配設された配線回路層2を具備してなる配線基板において、絶縁基板を少なくともガラス相と、ガーナイト(ZnAl2O4)および/またはスピネル(MgAl2O4)などのスピネル系化合物結晶相と、AlN、Si3N4、SiCおよびBNの群から選ばれる少なくとも1種の非酸化物系化合物結晶相(N)を含有し、相対密度が95%以上、誘電率が8以下、熱伝導率が2W/m・K以上のセラミック焼結体によって形成する。
Claim (excerpt):
スピネル系化合物結晶相と、AlN、Si3N4、SiCおよびBNの群から選ばれる少なくとも1種の非酸化物系化合物結晶相を含有し、相対密度が95%以上、誘電率が8以下、熱伝導率が2W/m・K以上であることを特徴とするセラミック焼結体。
IPC (4):
C04B 35/195 ,  H01B 3/02 ,  H05K 1/03 610 ,  H05K 3/46
FI (4):
H01B 3/02 A ,  H05K 1/03 610 E ,  H05K 3/46 T ,  C04B 35/16 A
F-Term (47):
4G030AA07 ,  4G030AA08 ,  4G030AA09 ,  4G030AA10 ,  4G030AA32 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA47 ,  4G030AA50 ,  4G030AA51 ,  4G030AA52 ,  4G030AA67 ,  4G030BA12 ,  4G030CA01 ,  4G030GA09 ,  5E346AA12 ,  5E346AA15 ,  5E346BB01 ,  5E346CC18 ,  5E346CC32 ,  5E346CC38 ,  5E346CC39 ,  5E346DD02 ,  5E346EE24 ,  5E346EE29 ,  5E346GG03 ,  5E346GG09 ,  5E346HH06 ,  5E346HH17 ,  5G303AA05 ,  5G303AB06 ,  5G303AB12 ,  5G303AB15 ,  5G303AB20 ,  5G303BA09 ,  5G303BA12 ,  5G303CA03 ,  5G303CB01 ,  5G303CB02 ,  5G303CB03 ,  5G303CB06 ,  5G303CB17 ,  5G303CB19 ,  5G303CB30 ,  5G303CB32 ,  5G303CB38 ,  5G303CB43
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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