Pat
J-GLOBAL ID:200903059756648721
セラミック焼結体およびそれを用いた配線基板
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000396297
Publication number (International publication number):2002053369
Application date: Dec. 26, 2000
Publication date: Feb. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】銀、銅、金等の低抵抗金属、なかでも銀と同時焼成が可能であり、高熱伝導率、低誘電率を有し、且つ高強度を有するセラミック焼結体を得る。【解決手段】絶縁基板1と、その表面および/または内部に配設された配線回路層2を具備してなる配線基板において、絶縁基板を少なくともガラス相と、ガーナイト(ZnAl2O4)および/またはスピネル(MgAl2O4)などのスピネル系化合物結晶相と、AlN、Si3N4、SiCおよびBNの群から選ばれる少なくとも1種の非酸化物系化合物結晶相(N)を含有し、相対密度が95%以上、誘電率が8以下、熱伝導率が2W/m・K以上のセラミック焼結体によって形成する。
Claim (excerpt):
スピネル系化合物結晶相と、AlN、Si3N4、SiCおよびBNの群から選ばれる少なくとも1種の非酸化物系化合物結晶相を含有し、相対密度が95%以上、誘電率が8以下、熱伝導率が2W/m・K以上であることを特徴とするセラミック焼結体。
IPC (4):
C04B 35/195
, H01B 3/02
, H05K 1/03 610
, H05K 3/46
FI (4):
H01B 3/02 A
, H05K 1/03 610 E
, H05K 3/46 T
, C04B 35/16 A
F-Term (47):
4G030AA07
, 4G030AA08
, 4G030AA09
, 4G030AA10
, 4G030AA32
, 4G030AA36
, 4G030AA37
, 4G030AA47
, 4G030AA50
, 4G030AA51
, 4G030AA52
, 4G030AA67
, 4G030BA12
, 4G030CA01
, 4G030GA09
, 5E346AA12
, 5E346AA15
, 5E346BB01
, 5E346CC18
, 5E346CC32
, 5E346CC38
, 5E346CC39
, 5E346DD02
, 5E346EE24
, 5E346EE29
, 5E346GG03
, 5E346GG09
, 5E346HH06
, 5E346HH17
, 5G303AA05
, 5G303AB06
, 5G303AB12
, 5G303AB15
, 5G303AB20
, 5G303BA09
, 5G303BA12
, 5G303CA03
, 5G303CB01
, 5G303CB02
, 5G303CB03
, 5G303CB06
, 5G303CB17
, 5G303CB19
, 5G303CB30
, 5G303CB32
, 5G303CB38
, 5G303CB43
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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磁器組成物および磁器並びにそれを用いた配線基板
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-068875
Applicant:京セラ株式会社
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特開昭63-210043
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特開平4-254477
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