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J-GLOBAL ID：200903059763940195

枚葉式気相成長装置の排気管

Inventor： 丸谷 新治 ,  加藤 浩樹 ,  日野 和彦 ,  久永 直人
Applicant, Patent owner： コマツ電子金属株式会社 ,  株式会社小松製作所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992277684
Publication number (International publication number)：1994112140
Application date： Sep. 24, 1992
Publication date： Apr. 22, 1994
Summary：

【要約】【目的】 枚葉式気相成長装置の反応容器内を流れるガスを、均一で再現性のある流れにすることができるようにする。【構成】 反応容器1に接続する排気管6の断面形状を前記反応容器1の断面形状と同一にし、この排気管6の第1の直線部6aから第1の曲がり部6bを経て第2の直線部6cに至る間の排気管6内部に、この排気管6の形状に沿った多数の細管からなる細管構造7を配設する。細管構造7の終端以降すなわち第2の直線部6cよりも下流側の排気管の直径、断面形状、曲がり等は自由に選択することができる。基体2上を流れるガスは、前記細管構造7の整流作用により乱されることがなく、均一で再現性のある流れにすることが可能となるので、高品質のエピタキシャル薄膜を得ることができる。また、気相成長装置をコンパクトにまとめることができるので、装置の省スペース化に寄与する。

Claim (excerpt)：

枚葉式気相成長装置の反応容器内にセットされた基体上を通過するガス流の方向と同一の方向に長い形状を有することを特徴とする枚葉式気相成長装置の排気管。

IPC (2)：

H01L 21/205 ,  C30B 25/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平3-165513