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J-GLOBAL ID:200903059816944228
充填層を用いた下水処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
名嶋 明郎 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992230236
Publication number (International publication number):1994071291
Application date: Aug. 28, 1992
Publication date: Mar. 15, 1994
Summary:
【要約】【目的】 広いスペースや大容量のポンプを必要とせず、高い脱窒率で下水の高度処理を行うことができる下水処理装置を提供すること。【構成】 槽体1の内部を垂直な隔壁2により2分して好気槽4と嫌気槽5とし、槽底部に支持層6を設けて充填層7、8をそれぞれ支持させる。第1の発明では被処理水流入側を好気槽4とし、嫌気槽5に隣接させてU字状流路12を設け、その下部にオゾン供給器13を設ける。第2の発明では被処理水流入側を嫌気槽5とし、隔壁2の上端の流通部14を通じて好気槽4側へ消化液循環を行わせる。
Claim (excerpt):
槽体の内部を下端に流通部を持つ垂直な隔壁により2分して被処理水流入側の好気槽と流出側の嫌気槽とし、槽体の槽底部に支持層を設けて好気槽側と嫌気槽側の充填層をそれぞれ支持させ、好気槽の支持層の直上位置には散気配管を設け、嫌気槽の支持層の直上位置にはメタノール注入管を設けるとともに、嫌気槽に隣接させてU字状流路を設け、その下部にオゾン供給器を設けたことを特徴とする充填層を用いた下水処理装置。
IPC (5):
C02F 3/34 101
, C02F 1/50
, C02F 1/78
, C02F 3/06
, C02F 9/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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特開昭58-045792
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特開昭56-081197
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特開昭54-108458
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