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J-GLOBAL ID：200903059828289551
スルホニルハライド化合物及び置換スルホンアミド化合物の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994034837
Publication number (International publication number)：1995242651
Application date： Mar. 04, 1994
Publication date： Sep. 19, 1995
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 置換スルホンアミド化合物等の工業的有利な製造方法を提供する。【構成】 一般式(III)(II)(式IIIは、R1 〜R7 は水素又は置換されていてもよいアルキルもしくはアリール基等を、Mは水素等を、mは1〜5の整数を各々表わす。)(式IIは、R1 〜R7 及びMは式IIIと同じ意味であり、Xはハロゲンを、kは0〜4の整数を、nは1〜5の整数を各々表わすが、k+n=mである。)一般式(I)(式中、R1 〜R7 、M、R、k及びnは上記と同じ。)で示される置換スルホンアミド化合物の製造方法。
Claim (excerpt)：
一般式(III)【化1】(式中、R1 〜R7 は各々独立して水素原子又は置換されていてもよいアルキル、アルケニル、シクロアルキル、アラルキルもしくはアリール基を表わし、Mは水素、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属原子又は4級アンモニウム塩を表わし、mは1〜5の整数を表わす。SO3 MはSO3 - で置換されているベンゼン環及びR1 〜R4 で表わされるアラルキルもしくはアリール基の何れか或いは双方の置換基である。)で示されるキサンテン誘導体とハロゲン化チオニルとを、N,N-ジメチルホルムアミド及びハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒の存在下に反応させることを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、R1 〜R7 及びMは上記と同じ意味を表わし、Xはハロゲン原子を表わし、kは0〜4の整数を表わし、nは1〜5の整数を表わすが、k+n=mである。)で示されるスルホニルハライド化合物の製造方法。
IPC (3)：
C07D311/80
, B01J 31/02 102
, C07B 61/00 300
Cited by examiner (6)
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