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J-GLOBAL ID：200903059829526166

気液混合溶解装置

Inventor： 中島 昇 ,  藤原 光輝 ,  糸平 俊一 ,  足立 哲夫
Applicant, Patent owner： エス・ピー・ジーテクノ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008070552
Publication number (International publication number)：2009220081
Application date： Mar. 19, 2008
Publication date： Oct. 01, 2009
Summary：

【課題】気液の混合溶解をより効率的に行うことができる方法を提供する。【解決手段】金属又は高硬度プラスチックで形成された極狭小幅を有するスクリーンに気相及び液相を同時に通過させることにより、液相中に気相を溶解させることを特徴とする気液混合溶解方法に係る。【選択図】図4

Claim (excerpt)：

金属又は高硬度プラスチックで形成された極狭小幅を有するスクリーンに、気相及び液相を同時に通過させることにより、液相中に気相を溶解させることを特徴とする気液混合溶解方法。

IPC (5)：

B01F 5/06 ,  B01F 1/00 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/12 ,  A01K 63/04

FI (6)：

B01F5/06 ,  B01F1/00 A ,  B01F3/04 F ,  B01F3/04 Z ,  B01F5/12 ,  A01K63/04 C

F-Term (11)：

2B104EB01 ,  2B104EB04 ,  2B104EB21 ,  2B104EB23 ,  4G035AA01 ,  4G035AB15 ,  4G035AB17 ,  4G035AB20 ,  4G035AB21 ,  4G035AC26 ,  4G035AC33

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 微細気泡発生装置、これを用いた溶存酸素除去装置およびこれらを用いた溶存酸素除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-247365   Applicant：江島孝治