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J-GLOBAL ID：200903059835686167

N-トリフェニルメチル-デヒドロアラニン誘導体及びその製造方法

Inventor： 加藤 康夫 ,  福元 研治
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社 ,  新日鐵化学株式会社
Agent (1)： 青木 朗 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992162740
Publication number (International publication number)：1994009518
Application date： Jun. 22, 1992
Publication date： Jan. 18, 1994
Summary：

【要約】【構成】 次式(I)【化1】(上式中、R1 は水素原子またはアルキル基であり、R2 はカルボキシル基の保護基である)で表されるN-トリフェニルメチル-デヒドロアラニン誘導体、ならびに対応する3-ハロアラニン誘導体から強塩基の存在下での脱ハロゲン化水素反応による前記式(I)で表わされる誘導体の製造方法を提供する。【効果】 N-保護基としてトリフェニルメチル基を選ぶことにより、合成中間体としての利用価値が向上した。

Claim (excerpt)：

次式(I)【化1】(上式中、R1 は水素原子またはアルキル基であり、R2 はカルボキシル基の保護基である)で表されるN-トリフェニルメチル-デヒドロアラニン誘導体。

IPC (2)：

C07C229/30 ,  C07C227/16