Pat

J-GLOBAL ID：200903059841434234

重イオンビーム照射によるキメラ植物の作出方法

Inventor： 吉田 茂男 ,  阿部 知子 ,  矢野 安重 ,  福西 暢尚 ,  鈴木 賢一
Applicant, Patent owner： 理化学研究所
Agent (1)： 野村 健一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002000993
Publication number (International publication number)：2003199447
Application date： Jan. 08, 2002
Publication date： Jul. 15, 2003
Summary：

【要約】【課題】 斑入りのペチュニアなどのキメラ植物を効率的に作出する手段を提供する。【解決手段】 ペチュニアの外植片に重イオンビームを照射し、その外植片から分化してきたキメラ個体を選抜し(FSRP法)、そのキメラ個体より得た外植片より組織培養法によって再分化した安定した形質のキメラ個体を選抜する(SSRP法)。

Claim (excerpt)：

以下の(1)〜(4)の工程を含むキメラ植物の作出方法。(1)植物の外植片に重イオンビームを照射する工程;(2)重イオンビームを照射した外植片からシュートを形成させる工程;(3)形成させたシュートの中からキメラのシュートを選抜する工程;(4)選抜したシュートを生育させ、成熟個体を得る工程;

IPC (3)：

A01H 3/00 ,  G21K 5/04 ,  C12N 15/01

FI (3)：

A01H 3/00 ,  G21K 5/04 A ,  C12N 15/00 X

F-Term (6)：

2B030AA02 ,  2B030AB03 ,  2B030AD15 ,  2B030CA10 ,  2B030CB02 ,  2B030CG05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭54-049828
  
• 特開昭54-049832