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J-GLOBAL ID：200903059851299270
投影露光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993216569
Publication number (International publication number)：1995142313
Application date： Aug. 31, 1993
Publication date： Jun. 02, 1995
Summary：
【要約】【目的】 レチクル上にスリット状の照明領域を設定すると共に、転写対象とするパターン以外を遮光するための絞りの構造及び制御系を簡略化し、ウエハ上での照度むらを低減する。【構成】 光源1からの光がフライアイレンズ36に入射し、フライアイレンズ36の射出側に形成される2次光源からの光が、第1リレーレンズ37A、可動レチクル遮光板38及び39、固定レチクルブラインド42、第2リレーレンズ37B並びにメインコンデンサーレンズ45を経てレチクル12を均一な照度で照明する。固定レチクルブラインド42によりレチクル上に設定した照明領域46を、走査に同期して移動する可動レチクル遮光板38,39で制限する。
Claim (excerpt)：
照明光を発生する光源と、前記照明光でマスク上の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域内の前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に投影する投影光学系とを有し、前記照明領域に対して前記マスクを所定方向に走査し、前記照明領域と共役な露光領域に対して前記基板を所定方向に走査することにより、前記マスクのパターンの像を逐次前記基板上に露光する投影露光装置において、前記マスク上の照明領域を所定の固定された形状に設定する固定の視野絞りと、該視野絞りで前記マスク上に設定された照明領域の前記マスクの走査方向の範囲を露光中に制限する可変遮光手段とを、前記照明光学系中の前記マスクと共役な面若しくはその近傍に配置したことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/02
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
