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J-GLOBAL ID：200903059860607000

照明装置及びそれを用いた投影露光装置

Inventor： 村木 真人
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 高梨 幸雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991225221
Publication number (International publication number)：1993047639
Application date： Aug. 09, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：

【要約】【目的】 パターン形状の方向や線幅等により最適な照明系を選択して高解像力の投影露光が可能な半導体素子の製造に好適な照明装置及びそれを用いた投影露光装置を得ること。【構成】 放射源11からの単一のコヒーレントビームを複数のビームに振幅分割し可干渉距離以上の光路長差を付与するインコヒーレント化光学系20と、該インコヒーレント化光学系からの複数のビームを受けて2次光源を形成する光学式インテグレーター22と、2次光源からの2次ビームを被照明面へ向ける集光光学系23とを有し、インコヒーレント化光学系は複数のビームの入射位置が光学式インテグレーターの光軸に関して互いにほぼ対称になるよう光学式インテグレーターに入射せしめており、放射源とインコヒーレント化光学系の間に角倍率を変えることにより光学式インテグレーター上に入射する複数のビームの個々の断面を変化させ、2次光源の強度分布を調整するアフォーカル系2を設けたこと。

Claim (excerpt)：

放射源と、該放射源からの単一のコヒーレントビームを複数のビームに振幅分割し該複数のビーム間に該コヒーレントビームの可干渉距離以上の光路長差を付与するインコヒーレント化光学系と、該インコヒーレント化光学系からの前記複数のビームを受けて2次光源を形成する光学式インテグレーターと、該光学式インテグレーターが形成する2次光源からの2次ビームを被照明面へ向ける集光光学系とを有し、前記インコヒーレント化光学系により、前記複数のビームの各中心ビームの入射位置が前記光学式インテグレーターの光軸に関して互いにほぼ対称になるよう前記複数のビームを前記光学式インテグレーターに入射せしめる照明装置において、前記放射源と前記インコヒーレント化光学系の間にアフォーカル系を設け、該アフォーカル系の角倍率を変えることにより前記光学式インテグレーター上に入射する前記複数のビームの個々の断面を変化させ、前記2次光源の強度分布を調整することを特徴とする照明装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2)：

H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L