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J-GLOBAL ID：200903059869827428

堆積膜形成方法

Inventor： 山田 克彦
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991201092
Publication number (International publication number)：1993029227
Application date： Jul. 17, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 従来排気されていた原料ガスを有効に用いて堆積膜を作成する。【構成】 成膜室に間欠的に原料ガスを供給することで堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、原料ガスを供給する期間tD と間欠動作の1周期の期間(tD +tA )との比に応じた数の成膜室を設け、単一の原料ガス供給源より各成膜室に時分割的に原料ガスを供給する。

Claim (excerpt)：

成膜室に間欠的に原料ガスを供給することで堆積膜を形成する堆積膜形成方法において、原料ガスを供給する期間と間欠動作の1周期の期間との比に応じた数の成膜室を設け、単一の原料ガス供給源より各成膜室に時分割的に原料ガスを供給することを特徴とする堆積膜形成方法。