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J-GLOBAL ID：200903059895915637

光学素子形成用平板及びそれを用いた光学素子母型の作製方法

Inventor： 三村 育夫 ,  濱田 豊
Applicant, Patent owner： 日本カーバイド工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998299058
Publication number (International publication number)：2000108136
Application date： Oct. 07, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：

【要約】【課題】 極めて高精度に、且つ簡単に、光学素子母型を作製することができ、特に微細で複雑な形状の光学素子の作製に極めて有効である光学素子形成用平板の作製方法、及び該平板を使用した光学素子母型の作製方法を提供する。【解決手段】 互いに平行な二面をもつ平板の端部に、所望のデザインの光学素子側面の投影形状に対応する形状が形成された複数の微細構造平板を、LIGAプロセスを含む工程によって形成することを特徴とする光学素子形成用平板の作製方法、及び複数の該平板を、該光学素子形状を構成するように多数重ね合わせて光学素子母型を作製することを特徴とする光学素子母型の作製方法。

Claim (excerpt)：

互いに平行な二面をもつ平板の端部に、所望のデザインの光学素子側面の投影形状に対応する形状が形成された複数の微細構造平板を、LIGAプロセスを含む工程によって形成することを特徴とする光学素子形成用平板の作製方法。

IPC (5)：

B29C 33/38 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/06 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/124

FI (5)：

B29C 33/38 ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/06 ,  G02B 3/08 ,  G02B 5/124

F-Term (14)：

2H042EA03 ,  2H042EA05 ,  2H042EA14 ,  2H042EA16 ,  4F202AA21 ,  4F202AH74 ,  4F202AH75 ,  4F202AH76 ,  4F202AJ02 ,  4F202CA09 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD12 ,  4F202CD24