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J-GLOBAL ID：200903059973534750

SF6ガス再生装置

Inventor： 椿 徹 ,  梅根 巌 ,  玉田 慎
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立エンジニアリングサービス ,  昭和電工株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997091843
Publication number (International publication number)：1998277353
Application date： Apr. 10, 1997
Publication date： Oct. 20, 1998
Summary：

【要約】【課題】SF6 ガスを必要最小限の時間で、かつ適切な純度に自動的に再生することが可能なSF6 ガス再生装置を提供する。【解決手段】フィルターユニット2を有するSF6 ガス循環系を備え、前記循環系にガス絶縁機器1内のSF6 ガスを導入循環させ、ガス絶縁機器内のSF6 ガスを再生するように形成されているSF6 ガス再生装置において、前記循環系に、前記フィルターユニット2で処理されたガスを分析する分析ユニット3と、この分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値以下と判断された時は再び前記フィルターユニットに戻す循環手段(8,41,71)と、前記分析ユニット3で分析されたSF6 ガスの純度が設定値を超えたと判断された時は処理されたSF6ガスを前記ガス絶縁機器1に戻す帰還手段(5,6,10)とを設けた。

Claim (excerpt)：

フィルターユニットを有するSF6 ガス循環系を備え、この循環系にガス絶縁機器内のSF6 ガスを導入循環させ、前記フィルターユニットを介してガス絶縁機器内のSF6 ガスを再生するように形成されているSF6 ガス再生装置において、前記循環系に、前記フィルターユニットで処理されたガスを分析する分析ユニットと、この分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値以下と判断された時は再び前記フィルターユニットに戻す循環手段と、前記分析ユニットで分析されたSF6 ガスの純度が設定値を超えたと判断された時は処理されたSF6 ガスを前記ガス絶縁機器に戻す帰還手段とを設けたことを特徴とするSF6 ガス再生装置。

IPC (4)：

B01D 53/30 ,  B01D 53/02 ,  H01H 33/57 ,  H02B 13/055

FI (4)：

B01D 53/30 ,  B01D 53/02 Z ,  H01H 33/57 B ,  H02B 13/06 M

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 大電力試験場におけるSF6ガス回数装置