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J-GLOBAL ID：200903059983477321

シャンプー組成物

Inventor： 松尾 貴史 ,  渡辺 俊輔
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998205317
Publication number (International publication number)：2000038326
Application date： Jul. 21, 1998
Publication date： Feb. 08, 2000
Summary：

【要約】【解決手段】 (A)両性高分子電解質、及び(B)カルボキシル基を有するアニオン性界面活性剤を含有し、pH3.5〜5.8であるシャンプー組成物。【効果】 泡立ちが良く、洗髪中及び濯ぎ始めの指通りが滑らかで、しかも洗い上がり後にさっぱり感が得られる。

Claim (excerpt)：

(A)両性高分子電解質、及び(B)カルボキシル基を有するアニオン性界面活性剤を含有し、pH3.5〜5.8であるシャンプー組成物。

IPC (5)：

A61K 7/075 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/94 ,  C11D 3/37

FI (5)：

A61K 7/075 ,  C11D 1/06 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/94 ,  C11D 3/37

F-Term (39)：

4C083AC182 ,  4C083AC562 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC711 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC902 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD112 ,  4C083AD131 ,  4C083AD212 ,  4C083BB05 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4H003AB09 ,  4H003AB31 ,  4H003AD04 ,  4H003AE05 ,  4H003BA01 ,  4H003BA09 ,  4H003BA12 ,  4H003BA15 ,  4H003DA02 ,  4H003EB28 ,  4H003EB30 ,  4H003ED02 ,  4H003FA18 ,  4H003FA21 ,  4H003FA23 ,  4H003FA28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

• 特開平4-164016
  
• 特開平4-164016
  
• シャンプー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-352009   Applicant：サンスター株式会社
• 角質洗じょうおよびコンディショニング組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-160820   Applicant：ロレアル
• シャンプー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-071540   Applicant：ライオン株式会社
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-107965   Applicant：ライオン株式会社
• 洗浄剤組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-021214   Applicant：ライオン株式会社
• シャンプー組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-065255   Applicant：日本ゼトック株式会社
• 特開平4-164016
  
• 特開平4-164016