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J-GLOBAL ID：200903059988855529

バレル型気相成長装置

Inventor： 荒井 剛 ,  太田 豊
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社
Agent (1)： 志波 邦男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994024703
Publication number (International publication number)：1995221022
Application date： Jan. 27, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】 回転駆動系パージ用ガスがサセプタ表面に回り込むのを防止し、エピタキシャル層の品質を向上することができるバレル型気相成長装置を提供する。【構成】 下端部にガス排気口19を有する反応炉11と、反応炉11内に収容され且つ半導体基板13を保持するサセプタ31と、サセプタ31の上部に載置され且つサセプタ31を回転する回転駆動装置15とを有するバレル型気相成長装置30において、サセプタ31の底部のボトムプレート31aに空孔31bを設けるとともに空孔31bに排気ノズル32を取り付け、サセプタ31内部を流れる回転駆動系パージ用ガスを排気ノズル32を介して反応炉11外部へ排出する。排気ノズル32は、例えば石英又は炭化珪素で被覆されたグラファイトからなり、少なくとも反応炉11下端部のガス排気口19まで延在するのが望ましい。さらに、ガス排気口19を含むガス排気系の内壁にセラミックコーティングを施したものが望ましい。

Claim (excerpt)：

下端部にガス排気口を有する反応炉と、該反応炉内に収容され且つ半導体基板を保持するサセプタと、該サセプタの上部に載置され且つ前記サセプタを回転する回転駆動装置とを有するバレル型気相成長装置において、前記サセプタの底部に空孔を設けるとともに該空孔に排気ノズルを取り付け、前記サセプタ内部を流れる回転駆動系パージ用ガスを前記排気ノズルを介して前記反応炉の外部へ排出することを特徴とするバレル型気相成長装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 回転型反応炉
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-159290   Applicant：株式会社日立製作所, 日立超エル・エス・アイ・エンジニアリング株式会社
• 特開平4-017324