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J-GLOBAL ID:200903059989278207

向流での固定床水素化処理工程を含む炭化水素仕込原料の処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 岸本 瑛之助 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001387591
Publication number (International publication number):2002201479
Application date: Dec. 20, 2001
Publication date: Jul. 19, 2002
Summary:
【要約】【課題】 向流での固定床水素化処理工程を含む炭化水素仕込原料の処理方法を提供する。【解決手段】 少なくとも1つの水素化処理工程を含む、硫黄含有化合物、窒素含有化合物および芳香族化合物を含む炭化水素仕込原料の処理方法であって、該水素化処理工程において、容器内で前記炭化水素仕込原料の少なくとも1つの液体フラクションと水素とを向流で、固体粒子の少なくとも1つの固定床を通して流通させる方法において、固体粒子の単数または複数の前記固定床は、平均直径約0.5〜5mmを有する固体粒子S1と、固体粒子S1の平均直径よりも大きい平均直径を有する固体粒子S2との実質上均質な混合物を含み、前記粒子S1またはS2の少なくとも一方の粒子の少なくとも一部は、触媒的でありかつ無機担体を含むことを特徴とする、処理方法である。
Claim (excerpt):
少なくとも1つの水素化処理工程を含む、硫黄含有化合物、窒素含有化合物および芳香族化合物を含む炭化水素仕込原料の処理方法であって、該水素化処理工程において、容器内で前記炭化水素仕込原料の少なくとも1つの液体フラクションと水素とを向流で、固体粒子の少なくとも1つの固定床を通して流通させる方法において、固体粒子の単数または複数の前記固定床は、平均直径約0.5〜5mmを有する固体粒子S1と、固体粒子S1の平均直径よりも大きい平均直径を有する固体粒子S2との実質上均質な混合物を含み、前記粒子S1またはS2の少なくとも一方の粒子の少なくとも一部は、触媒的でありかつ無機担体を含むことを特徴とする、処理方法。
IPC (5):
C10G 45/04 ,  C10G 45/08 ,  C10G 45/46 ,  C10G 65/04 ,  C10G 65/08
FI (5):
C10G 45/04 A ,  C10G 45/08 A ,  C10G 45/46 ,  C10G 65/04 ,  C10G 65/08
F-Term (5):
4H029CA00 ,  4H029DA00 ,  4H029DA01 ,  4H029DA09 ,  4H029DA10
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

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