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J-GLOBAL ID：200903060089934336

シャンプー組成物

Inventor： 宮川 律子 ,  秋山 文孝
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 池浦 敏明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997209694
Publication number (International publication number)：1999035432
Application date： Jul. 18, 1997
Publication date： Feb. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 すすぎ時の毛髪の重量感やべたつき感を解消し、コンディショニング性にも優れた低刺激性シャンプー組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(1)で表されるβ-アラニン系界面活性剤と(B)下記一般式(2)で表されるエーテルカルボン酸系界面活性剤と(C)カチオン性高分子化合物(カチオン化セルロース等)とを含有することを特徴とするシャンプー組成物。【化1】【化2】R2O(CH2CH2O)nCH2COOM2 (2)

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表されるβ-アラニン系界面活性剤と、(B)下記一般式(2)で表されるエーテルカルボン酸系界面活性剤と、(C)カチオン性高分子化合物とを必須成分として含有することを特徴とするシャンプー組成物。【化1】〔式中、R1は炭素数8〜18の飽和または不飽和炭化水素基、M1は水素原子、アルカリ金属、アンモニウム、または炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミン、Xは水素原子、または-CH2CH2COOM1基を示す(但し、M1は前記と同じ定義)。〕【化2】 R2O(CH2CH2O)nCH2COOM2 (2)(式中、R2は炭素数8〜18の直鎖または分岐鎖のアルキル基、アルケニル基、アルキルフェニル基、nは0〜20の数、M2は水素原子、アルカリ金属、アンモニウム、または炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有するアミンを示す。)