放射線感応性樹脂組成物及びその膜、パターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤幸男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995050460
Publication number (International publication number)：1996220765
Application date： Feb. 15, 1995
Publication date： Aug. 30, 1996
Summary：

【要約】【目的】被加工物を高温下に晒すことなく、また厚膜状に形成されてもクラックを生じることなく酸化シリコン膜を形成でき、しかもそれ自体が放射線に対して感応性を示す新規な樹脂組成物を提供する。【構成】ポリ(ジ-t-ブトキシシロキサン)190g、酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフレート8.25g(0.02mol)を、溶剤であるメチルイソブチルケトン237g、高沸点溶剤であるジエチレングリコール26gに溶解し、0.2μm孔メンブレンフィルターで濾過し、放射線感応性樹脂組成物を調製する。

Claim (excerpt)：

アルコキシル基を有するポリ(シロキサン)誘導体であるポリ(アルコキシシロキサン)と、露光によって酸を発生する酸発生剤と、露光後に加熱を受けたときに蒸発しない高沸点溶剤とを含む放射線感応性樹脂組成物。

IPC (3)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/075 511 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

シリコーン樹脂及びこれを用いた組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-142388 Applicant：沖電気工業株式会社
特開平4-212160
特開平4-184445

Cited by examiner (3)

シリコーン樹脂及びこれを用いた組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-142388 Applicant：沖電気工業株式会社
特開平4-212160
特開平4-184445

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