原子転移ラジカル重合を用いる新規のホモ-及びコポリマーの調製

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998505255
Publication number (International publication number)：2000514479
Application date： Jul. 09, 1997
Publication date： Oct. 31, 2000
Summary：

【要約】本発明は、(i)ラジカル転移可能な原子又は基を有するイニシエーター、(ii)遷移金属化合物、(iii)リガンドを備える開始系の存在中で、定義の明確な分子構造と狭い多分散指数を持った、任意に少なくとも1つの極性基を含む、新規のホモポリマー又はブロック又はグラフトコポリマーの合成のための原子(又は基)転移ラジカル重合の方法を導く;また本発明は、原子又は基転移ラジカル重合方法によってブロック又はグラフトコポリマーを続いて形成するために、マクロイニシエーター成分(i)として使用することができる少なくとも2つのハロゲン基を有するマクロ分子の合成をも導く;また本発明は、分枝した又は高度分枝したポリマーの合成のための原子又は基転移ラジカル重合の方法を導く;加えて、本発明は、ブロック又はグラフトコポリマーの生産に続いて使用することができるマクロイニシエーターの合成方法をも導く。

Claim (excerpt)：

少なくとも1のラジカル転移可能な基を含むマクロイニシエーター、該マクロイニシエーター及び/又は不活発なポリマー鎖末端とともに可逆的酸化還元サイクル中で繰り返し参加する遷移金属-複合物、及び1又はそれ以上の成長ポリマー鎖末端で形成したフリーラジカル、該遷移金属にσ-結合又はπ-結合で配位する1又はそれ以上のN-、O-、P-、またはS-含有リガンド、又は該遷移金属にπ-結合で配位することができるいずれかのC-含有化合物、を備える系の存在中で1又はそれ以上のラジカル重合可能なモノマーを重合すること、 (コ)ポリマーを形成すること、の工程を備える、原子又は基転移ラジカル重合方法。

IPC (3)：

C08F 4/10 , C08F 4/40 , C08F297/00

FI (3)：

C08F 4/10 , C08F 4/40 , C08F297/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

原子(または基)移動・ラジカル重合に基づく新規な共重合体および新規な重合方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-529428 Applicant：マティヤスゼウスキー,クルズィスゾフ, ワン,チン-シャン
原子(または原子団)転移ラジカル重合に基づく改良された方法及び有用な構造及び特性を有する新規な(コ)ポリマー
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-518918 Applicant：カーネギーメロンユニヴァーシティー
ビニル系重合体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-186566 Applicant：鐘淵化学工業株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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