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J-GLOBAL ID：200903060192935588

パターン化した光学素子の製造方法

Inventor：
ライアン、ティモシー ジョージ

About ライアン、ティモシー ジョージ

, 
ハーヴェイ、トーマス グリアソン

About ハーヴェイ、トーマス グリアソン


Applicant, Patent owner：
エピジェム リミテッド

About エピジェム リミテッド


Agent (1)： 松永 孝義
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003562682
Publication number (International publication number)：2005516236
Application date： Jan. 20, 2003
Publication date： Jun. 02, 2005
Summary：
【課題】【解決手段】 適当な受容材料に形成された、空間的にパターン化した単格子のような表面が周期性を持つ浮彫り状の微細構造を備える配向層を形成し;配向可能な液晶相を示す該配向層の上にコーティング材を積層し;該コーティング材層を固化し、液晶相である間に形成された該配向を固定させるステップを含む、光学リターダに使用するリターダまたは液晶素子などのパターン化した光学素子を製造する方法を開示する。また、光学リターダに使用するリターダまたは液晶素子などのパターン化した光学素子を開示する。
Claim (excerpt)：
適当な受容材料に形成された、空間的にパターン化した表面が周期性を持つ浮彫り状の微細構造(a spatially patterned periodic surface relief microstructure)を備える配向層(alignment layer)を形成し; 該配向層の微細構造でコーティング材を配向可能な配向層の上に液晶相を示すコーティング材を積層し(laying down); 該コーティング材を固体膜にして、該膜と配向層との間の分子配向を実質的に保つ; 工程を含む、パターン化した光学素子を製造する方法。
IPC (2)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363
FI (2)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363
F-Term (20)：
2H049BA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BA45 ,  2H049BB02 ,  2H049BB42 ,  2H049BC05 ,  2H049BC22 ,  2H091FA07X ,  2H091FA07Z ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC12 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091FD10 ,  2H091GA01 ,  2H091GA06 ,  2H091LA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • EP特許89200427
  • EP特許0887667
  • US特許5861931
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Cited by examiner (5)
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