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J-GLOBAL ID：200903060200163581

全反射ホログラムを用いた露光装置及び露光方法

Inventor： 後藤 明弘 ,  市原 裕 ,  玄間 隆志 ,  白石 直正 ,  馬込 伸貴 ,  白数 廣 ,  松浦 敏男
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992074924
Publication number (International publication number)：1993281619
Application date： Mar. 31, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】ホログラムの生成工程における精度を高め、より忠実度の高い再生像を形成し得る露光装置及び露光方法を提供する。【構成】参照光照射光学系10によりホログラム記録媒体17への参照光束18としてP偏光の直線偏光を照射する構成とした。また、P偏光の参照光をホログラム記録媒体17の定着にも用いること可能である。記録媒体内において互いの光束が直交するため実質的な干渉が起こらず、定在波による干渉縞が形成されず、参照光束18と物体光束28との干渉縞と、全反射光束と物体光束との干渉縞との少なくとも一方のみが形成され、干渉縞が効率よく形成されノイズも低下する。

Claim (excerpt)：

コヒーレント光束を発生するコヒーレント光源と、該光源からのコヒーレント光束を所定のパターンを有するマスクに導きホログラム形成のための物体光束をホログラム記録媒体へ照射するための物体光照射光学系と、前記コヒーレント光源からの光束をホログラム記録媒体に対して前記マスクと反対側から該ホログラム記録媒体の内面にて全反射するように照射する参照光照射光学系とを有する露光装置において、前記参照光照射光学系は前記ホログラム記録媒体への参照光束としてP偏光の直線偏光を照射することを特徴とする全反射ホログラムを用いた露光装置。

IPC (4)：

G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521 ,  G03H 1/04 ,  H01L 21/027