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J-GLOBAL ID:200903060248320824

近視野光発生素子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 坂上 正明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001395904
Publication number (International publication number):2003194696
Application date: Dec. 27, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 微小開口型の近視野光発生素子、近視野光記録装置、および近視野光顕微鏡において、近視野光強度を向上させること。【解決手段】 入射光によってプラズモンを発生させるAu遮光膜3をCr固定膜2の上に形成し、Cr固定膜を選択的に一部エッチング除去することにより、Au遮光膜3が入射光に対して露出する部分6を形成する。
Claim (excerpt):
基板表面に形成された固定膜と、前記固定膜表面に形成された遮光膜と、前記固定膜と前記遮光膜の一部を貫通し、入射光が前記基板側の入口から入射したのち前記遮光膜側の出口から近視野光となって出射する光学的貫通穴を有し、前記光学的貫通穴の前記入口から前記出口までの途中で、前記遮光膜が前記固定膜よりも前記光学的貫通穴の中央に向けてせり出していることを特徴とする近視野光発生素子。
IPC (3):
G01N 13/14 ,  G11B 7/135 ,  G12B 21/06
FI (3):
G01N 13/14 B ,  G11B 7/135 A ,  G12B 1/00 601 C
F-Term (20):
5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119AA38 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119JA34 ,  5D119MA06 ,  5D119NA05 ,  5D789AA11 ,  5D789AA22 ,  5D789AA38 ,  5D789BA01 ,  5D789CA06 ,  5D789CA21 ,  5D789CA22 ,  5D789CA23 ,  5D789JA34 ,  5D789JA66 ,  5D789MA06 ,  5D789NA05

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