Pat

J-GLOBAL ID：200903060255678270

低分子成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法

Inventor： 池松 武司 ,  川上 潔 ,  白井 博史 ,  末澤 寛典
Applicant, Patent owner： 旭化成株式会社
Agent (1)： 鳴井 義夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001136262
Publication number (International publication number)：2002128806
Application date： May. 07, 2001
Publication date： May. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】 樹脂の加工性、加工安定性及び力学特性を改良し、低分子成分の含有量が少ない故に溶出又は揮発量の極めて少ないスチレン系樹脂を高い生産効率で製造する方法等を提供すること。【解決手段】 逆混合流れを有する反応槽R1の一方から、一括で又は分割して下記組成(A)を有する原料系を連続的に仕込み、反応槽R1のもう一方から生成系を連続的に抜き出す連続アニオン重合プロセスを含み、反応槽R1の内温を40〜120°Cの範囲に制御し、かつ反応槽R1中に存在するスチレン系単量体、炭化水素溶媒及びスチレン系重合体の合計量に対する該単量体の平均割合を10重量%未満に制御して得られたスチレン系重合体溶液を、脱揮乾燥してなる低分子成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法:(A)スチレン系単量体 1.0Kg炭化水素溶媒 0.1〜3Kg有機リチウム化合物 0.5〜200ミリモル。

Claim (excerpt)：

逆混合流れを有する反応槽R1の一方から、一括で又は分割して下記組成(A)を有する原料系を連続的に仕込み、反応槽R1のもう一方から生成系を連続的に抜き出す連続アニオン重合プロセスを含み、反応槽R1の内温を40〜120°Cの範囲に制御し、かつ反応槽R1中に存在するスチレン系単量体、炭化水素溶媒及びスチレン系重合体の合計量に対する該単量体の平均割合を10重量%未満に制御して得られたスチレン系重合体溶液を、脱揮乾燥してなる低分子成分の少ないスチレン系樹脂の製造方法:(A)スチレン系単量体 1.0Kg炭化水素溶媒 0.1〜3Kg有機リチウム化合物 0.5〜200ミリモル。

IPC (2)：

C08F 2/00 ,  C08F 12/08

FI (2)：

C08F 2/00 A ,  C08F 12/08

F-Term (24)：

4J011AA05 ,  4J011AB08 ,  4J011BA00 ,  4J011BA01 ,  4J011BB01 ,  4J011BB04 ,  4J011DA04 ,  4J011DB13 ,  4J011DB23 ,  4J100AB02P ,  4J100CA01 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA08 ,  4J100FA12 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100FA30 ,  4J100FA37 ,  4J100GB00 ,  4J100GB12 ,  4J100GB18 ,  4J100GC26 ,  4J100GC37

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭61-098702
  
• 抑制されたアニオン重合
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-532450   Applicant：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭61-098702