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J-GLOBAL ID：200903060261552319

ホログラム形成方法及び装置

Inventor： 玄間 隆志 ,  後藤 明弘 ,  市原 裕
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 佐藤 正年 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993271224
Publication number (International publication number)：1995104647
Application date： Oct. 05, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ホログラム形成時の干渉性を保ったまま、スペックルノイズの低減を図ることを可能にしたホログラム形成方法並びに装置を提供すること。【構成】 空間コヒーレンスの低い光束を物体波用光束と参照波用光束とに分割して個別にホログラム形成位置に導くに際し、両光束の光路長を等しく構成し、両光束の照射面同士が分割前の光束の同一断面を構成すると共に、その断面内各部の位置関係を維持して互いに対応するように導いて、これらの両分割光束を干渉させてホログラム干渉縞を作製すること。

Claim (excerpt)：

物体で回折された物体波と参照波とを干渉させて生じた干渉縞により前記物体の像のホログラムを作製するホログラム形成方法において、空間コヒーレンスの低い光束を物体波用光束と参照波用光束とに分割し、これらを個別にホログラム形成位置に導くに際し、前記分割位置からホログラム形成位置までの前記分割された両光束の光路長差を前記光束の可干渉範囲内となるように構成し、前記ホログラム形成位置における前記分割された両光束の照射面同士が、分割前の光束の同一断面を構成すると共に、その断面内各部の位置関係を維持して互いに対応するように導いて、これらの両分割光束を干渉させてホログラム干渉縞を作製することを特徴とするホログラム形成方法。

IPC (2)：

G03H 1/04 ,  G03H 1/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭48-074952
  
• ホログラム作成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-049804   Applicant：株式会社リコー