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J-GLOBAL ID：200903060316015873

浄水装置を備えた貯水槽

Inventor： 稲谷 正敏
Applicant, Patent owner： 松下冷機株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999073332
Publication number (International publication number)：2000265292
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 26, 2000
Summary：

【要約】【課題】 貯水槽の水の溶存オゾンを10μg/L以下の低濃度に制御することにより微生物汚染の防止と臭素酸イオンの生成を防止する。【解決手段】 電解オゾン生成機構と溶存オゾン濃度検知機構と電解電圧調整機構により貯水槽内のオゾン濃度を制御する。

Claim (excerpt)：

陰極と、陽極と、前記陰極と陽極とを仕切る固体電解質膜とからなる電解セルと、被処理水を蓄える貯水槽と、前記電解セルで水の電気分解によって生成するオゾンを含むガスを前記貯水槽の被処理水中に、導入管により導入するように構成し、前記陰極と陽極とに印加する直流電圧調整機構と、被処理水中のオゾン濃度を検知するオゾン濃度検知機構とにより、被処理水中のオゾン濃度を10μg/L以下に制御することを特徴とする浄水装置を備えた貯水槽。

IPC (3)：

C25B 15/00 302 ,  C25B 1/13 ,  G07F 13/00

FI (3)：

C25B 15/00 302 Z ,  C25B 1/00 F ,  G07F 13/00 B

F-Term (22)：

3E047DC04 ,  3E047DC08 ,  3E047GA06 ,  4K021AA01 ,  4K021AA09 ,  4K021AB15 ,  4K021BA02 ,  4K021BB05 ,  4K021BC07 ,  4K021BC09 ,  4K021CA01 ,  4K021CA06 ,  4K021CA09 ,  4K021CA13 ,  4K021CA15 ,  4K021DB07 ,  4K021DB16 ,  4K021DB18 ,  4K021DB19 ,  4K021DB31 ,  4K021DB53 ,  4K021DC07