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J-GLOBAL ID:200903060325532961
走査型レーザ顕微鏡の条件設定装置及び走査型レーザ顕微鏡システム
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
上田 邦生
, 藤田 考晴
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005345374
Publication number (International publication number):2007148223
Application date: Nov. 30, 2005
Publication date: Jun. 14, 2007
Summary:
【課題】観察の自由度を向上させることのできる走査型レーザ顕微鏡の条件設定装置及び走査型レーザ顕微鏡システムを提供することを目的とする。【解決手段】表示部を備え、表示部の表示画面には、プレスキャンの画像を表示するプレスキャン画像表示部60、スキャン用レーザ光の照射領域として1以上のスキャン領域を指定するためのスキャン領域指定部61、及び刺激用レーザ光の照射領域として1以上の刺激領域を指定するための刺激領域指定部62を設け、スキャン領域指定部61によりスキャン領域が指定された場合に、該スキャン領域をプレスキャン画像表示部60のプレスキャン画像上に表示するとともに、該スキャン領域の近傍に、スキャンを実施する順序を表示し、且つ、刺激領域指定部62により刺激領域が指定された場合に、該刺激領域をプレスキャン画像上に表示するとともに、該刺激領域の近傍に、刺激を実施する順序を表示する走査型レーザ顕微鏡の条件設定装置を提供する。【選択図】図2
Claim (excerpt):
標本の画像を得るためのスキャン用レーザ光を前記標本に照射するスキャン用走査光学系と、刺激を与えるための刺激用レーザ光を前記標本に照射する刺激用走査光学系とを備える走査型レーザ顕微鏡に用いられ、観察に応じたレーザ照射条件を設定するための走査型レーザ顕微鏡の条件設定装置であって、
プレスキャンの画像を表示する表示手段と、
前記プレスキャンの画像が表示されたプレスキャン画面において、刺激用レーザ光の照射領域として1以上の刺激領域を指定するための刺激領域指定手段と
を備え、
前記表示手段は、前記刺激領域指定手段により刺激領域が指定された場合に、該刺激領域を前記プレスキャン画面に表示するとともに、該刺激領域の近傍に、刺激を実施する順序を表示する走査型レーザ顕微鏡の条件設定装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (4):
2H052AA07
, 2H052AC34
, 2H052AF14
, 2H052AF21
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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レーザ走査顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294107
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Cited by examiner (7)
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走査型レーザ顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-124326
Applicant:オリンパス株式会社
-
顕微鏡用物体の検査及び操作のための装置及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-238639
Applicant:ライカミクロジュステムスハイデルベルクゲーエムベーハー
-
コンピュータ制御された顕微鏡
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-575377
Applicant:ヨーロピアンモレキュラーバイオロジーラボラトリー
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レーザ走査顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-294107
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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試料を走査するための方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-135233
Applicant:ライカマイクロシステムズハイデルベルクゲーエムベーハー
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走査型レーザ顕微鏡システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-400320
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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顕微鏡装置、顕微鏡装置の制御方法、及びプログラム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-007521
Applicant:オリンパス株式会社
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