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J-GLOBAL ID：200903060401282643

レーザ回折散乱を用いた粒子径分布測定方法および測定装置

Inventor： 早川 修 ,  椿 淳一郎
Applicant, Patent owner： 財団法人ファインセラミックスセンター
Agent (1)： 岡田 英彦 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992250505
Publication number (International publication number)：1994074892
Application date： Aug. 25, 1992
Publication date： Mar. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】 レーザ光の波長λに対して粒子径dが小さい場合にも、正確な粒子径分布を測定できる粒子径分布測定方法および測定装置を提供する。【構成】 レーザ回折散乱測定装置が起動され、分散された被測定粒子について、適当な屈折率の値に基づいて測定された散乱光強度分布から粒子径分布が求められて出力され(ステップS40,S42,S44,S46,S48,S50)、累積粒子割合が50%になる粒子径と10%になる粒子径がプロットされる(ステップS52,S54)。N個の屈折率について繰り返され、50%粒子径と10%粒子径が最大となる屈折率の値が選択される(ステップS56,S58)。この最適屈折率の値を用いて求められた粒子径分布が、ディスプレイ画面,プリンタに出力される(ステップS60,S62)。

Claim (excerpt)：

レーザ光源から出射されたレーザ光の被測定粒子による回折もしくは散乱を用いて該被測定粒子の粒子径分布を測定するレーザ回折散乱を用いた粒子径分布測定方法において、前記レーザ光源から出射されたレーザ光の前記被測定粒子による散乱パターンを測定する工程と、該散乱パターンから一定の累積粒子割合に対するしきい値粒子径の値を複数の屈折率について算出する工程と、該算出されたしきい値粒子径が最大値をとる屈折率の値を前記複数の屈折率から選択する工程と、該選択された屈折率の値を用いて前記散乱パターンから前記被測定粒子の粒子径分布を求める工程、とを有するレーザ回折散乱を用いた粒子径分布測定方法。