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J-GLOBAL ID：200903060409362565

放射線によるキュアの可能な組成物およびその使用

Inventor： ユルゲン・マイクスナー ,  ヴオルフガング・フイツシヤー ,  プラモド・グプタ
Applicant, Patent owner： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
Agent (1)： 川原田 一穂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993214777
Publication number (International publication number)：1994107753
Application date： Aug. 09, 1993
Publication date： Apr. 19, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 室温下でラジカル重合によりキュアの可能な組成物の提供、及びコーティング用、補修用又は封止用バインダーとしての及び成形品の製造の為の上記組成物の使用。【構成】 A)1種以上のα,β-エチレン的に不飽和なポリエステル20〜100 重量部、B)(メタ)アクリロイル基及び/又はビニルエーテル基を含有する化合物0〜80重量部とからなる室温下でラジカル重合によりキュアの可能な組成物。ポリエステルA)はa) i)1種以上のα,βエチレン的に不飽和なジカルボン酸及び/又はその無水物、及びii)上記a)i)以外の1種以上のジカルボン酸及び/又はその無水物を含有するジカルボン酸成分、b) i)1種以上のアルコキシル化された2-ブテン-1,4- ジオール、及びii)上記b)i)以外の1種以上の一価又は多価アルコールを含有するアルコール成分反応生成物である。

Claim (excerpt)：

A)1種又はそれ以上のα,β-エチレン的に不飽和なポリエステル20〜100重量部と、B)(メト)アクリロイル基および/又はビニルエーテル基を含有する化合物0〜80重量部とからなる室温下でラジカル重合によりキュアの可能な組成物であり、そして前記ポリエステルA)はa)i)40〜100カルボキシル当量%の1種又はそれ以上のα,βエチレン的に不飽和なジカルボン酸および/又はその無水物、およびii)0〜60カルボキシル当量%の上記a)i)以外の1種又はそれ以上のジカルボン酸および/又はその無水物を含有するジカルボン酸成分と、b)i)25〜100ヒドロキシル当量%の、平均分子量が130〜400である1種又はそれ以上のアルコキシル化された2-ブテン-1,4-ジオール、およびii)0〜75ヒドロキシル当量%の、分子量が32〜400である上記b)i)以外の1種又はそれ以上の一価又は多価アルコールを含有するアルコール成分との反応生成物であり、しかもa)とb)の量はカルボキシル基のヒドロキシル基に対する当量比が1:1より多くないように選ばれ、A)とB)の重量部の合計は成分A)とB)の重量に基づいて100であり、但し成分A)とB)が9:1を超える重量比で用いられるとき、成分a)は少なくとも90カルボキシル当量%の成分a)i)を含有し、成分b)は少なくとも40ヒドロキシル当量%の成分b)i)を含有することを条件とする、前記組成物。

IPC (5)：

C08F299/04 MSP ,  C08G 63/52 NPG ,  C09D167/06 PEJ ,  C09D167/06 PEK ,  C09K 3/10