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J-GLOBAL ID：200903060419300380

微細光記録装置

Inventor： 一色 史雄 ,  伊藤 顕知 ,  保坂 純男
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999004950
Publication number (International publication number)：2000206315
Application date： Jan. 12, 1999
Publication date： Jul. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】微小な径のアパーチャにおける、光の透過効率や、試料との接触性を改善し、さらにそのような構造を簡易に作製すること。【解決手段】遮光膜に形成された透過窓を、透明な誘電体物質で充填した凸型構造とする。この構造は遮光膜の一部を選択的に化学変化させて透明化することで作製できる。上記透明化は、レジストを用いた選択的な酸化・水酸化・窒化または弗化や、微小探針等を用いて行う通電酸化(陽極酸化)、スポット加熱による熱酸化等により実現できる。【効果】遮光膜表面よりも凸型に張り出した構造により試料面と透明窓の距離を接近させることができ、ニアフィールド光を効率良く対象物表面まで供給できる。

Claim (excerpt)：

光学的に不透明または半透明で有限の厚さを持つ遮光膜部分と、遮光膜部分より高い透過率を持つ透過窓部分より成る、光の透過する領域を限定するための光学的手段、またはニアフィールド光を発生させるための光学的手段において、その透過窓部分が、誘電体物質により充填されており、かつその透過窓部分のみが選択的に遮光膜表面よりも凸型に突き出していることを特徴とする微小アパーチャ。

IPC (3)：

G02B 5/00 ,  G01N 13/14 ,  G11B 7/135

FI (3)：

G02B 5/00 B ,  G01N 37/00 E ,  G11B 7/135 A

F-Term (13)：

2H042AA18 ,  2H042AA21 ,  5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119BA01 ,  5D119CA06 ,  5D119DA01 ,  5D119DA05 ,  5D119JA34 ,  5D119JA35 ,  5D119JA44 ,  5D119JA64 ,  5D119NA05