レーザ光源装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岡本宜喜 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998187862
Publication number (International publication number)：2000022259
Application date： Jul. 02, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】レーザ光源の発光波長を高精度に安定化させることができる小型のレーザ光源装置を提供すること。【解決手段】半導体レーザ1の一方の光ビーム出射端に波長ロッカ4を設ける。波長ロッカ4には干渉光フィルタ3とその透過光及び反射光を受光するフォトダイオードPD1,PD2を配置する。フォトダイオードPD1,PD2の出力比を算出し、出力比が所定値となるようにレーザ光源の発光波長を調整する。半導体レーザ1,波長ロッカ4を光学モジュール11内に封入し、他のブロックと共に基板上に実装する。こうすれば小型でレーザ光源の波長を安定させることができる。

Claim (excerpt)：

半導体レーザと、前記半導体レーザの光が空間を介して入射され、所定波長の光を透過させ、他を反射させる光フィルタと、前記光フィルタを透過する光及び前記光フィルタに反射される光を夫々受光する第1,第2の受光素子と、前記第1,第2の受光素子の出力比を算出する出力比算出手段と、前記出力比算出手段による出力比が所定値となるように前記光源の発光波長を調整する波長制御手段と、前記半導体レーザ,前記光フィルタ及び前記第1,第2の受光素子を封止する光学モジュールと、を具備し、前記出力比算出手段、波長制御手段を構成する電子回路部及び前記光学モジュールを同一のケース内に収納して構成したことを特徴とするレーザ光源装置。

IPC (2)：

H01S 5/068 , G01J 3/26

FI (2)：

H01S 3/133 , G01J 3/26

F-Term (18)：

2G020CB21 , 2G020CB23 , 2G020CC24 , 2G020CC26 , 2G020CC31 , 2G020CD22 , 2G020CD31 , 2G020CD36 , 5F073AB27 , 5F073AB28 , 5F073AB30 , 5F073BA02 , 5F073EA03 , 5F073FA05 , 5F073FA06 , 5F073FA25 , 5F073GA22 , 5F073GA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭62-119993
特開平4-029387
特開昭63-181389

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