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J-GLOBAL ID：200903060428719598

オキシムスルホネート化合物及びレジスト用酸発生剤

Inventor： 羽田 英夫 ,  橋口 達也 ,  駒野 博司 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995254214
Publication number (International publication number)：1997095479
Application date： Sep. 29, 1995
Publication date： Apr. 08, 1997
Summary：

【要約】【課題】 レジストの酸発生剤として用いた場合、露光に使用する活性光に対する透明性が優れ、かつ発生する酸の強度が高く、レジスト溶媒に対する溶解性の良好なオキシムスルホネート化合物を提供することである。【解決手段】 一般式【化1】(式中のR1及びR2は非芳香族性炭化水素基又はハロゲン化非芳香族性炭化水素基である)とする。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】(式中のR1及びR2は非芳香族性炭化水素基又はハロゲン化非芳香族性炭化水素基である)で表わされるオキシムスルホネート化合物。

IPC (2)：

C07C309/65 ,  G03F 7/004 503

FI (2)：

C07C309/65 ,  G03F 7/004 503

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開平2-161444
  
• 特開平2-154266
  
• 特開平1-124848
  
• 特開昭60-065072
  

Cited by examiner (8)

• 特開平2-161444
  
• 特開平2-161444
  
• 特開平2-154266
  
• 特開平2-154266
  
• 特開平1-124848
  
• 特開平1-124848
  
• 特開昭60-065072
  
• 特開昭60-065072