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J-GLOBAL ID：200903060429124679

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 高須 亮一 ,  宮入 美和 ,  岩下 淳 ,  立川 俊和
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003042339
Publication number (International publication number)：2004252146
Application date： Feb. 20, 2003
Publication date： Sep. 09, 2004
Summary：

【課題】アルカリ現像液に対して膨潤しにくいネガ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】放射線の照射により酸を発生する化合物(A)と、酸の作用によりアルカリに対して不溶性に変化する樹脂成分(B)とを含有するアルカリ現像可能なネガ型レジスト組成物であって、前記(B)成分が、(b1)前記(A)成分から発生した酸の作用によりラクトンを形成することにより、アルカリに対して不溶性となる単位、および(b2)アルコール性ヒドロキシ基を有する単位、とを含む樹脂成分であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

放射線の照射により酸を発生する化合物(A)と、酸の作用によりアルカリに対して不溶性に変化する樹脂成分(B)とを含有するアルカリ現像可能なネガ型レジスト組成物であって、 前記(B)成分が、 (b1)前記(A)成分から発生した酸の作用によりラクトンを形成することにより、アルカリに対して不溶性となる単位、および (b2)アルコール性ヒドロキシ基を有する単位、 とを含む樹脂成分であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F7/038 ,  C08F8/16 ,  C08F220/28 ,  H01L21/027

FI (4)：

G03F7/038 601 ,  C08F8/16 ,  C08F220/28 ,  H01L21/30 502R

F-Term (32)：

2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BD42 ,  2H025BE00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16Q ,  4J100AL29Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11H ,  4J100BA16P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53H ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100DA38 ,  4J100HA17 ,  4J100HC04 ,  4J100HC69 ,  4J100HC75 ,  4J100JA38