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J-GLOBAL ID:200903060433631801
液体蒸発装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992082307
Publication number (International publication number):1994181177
Application date: Apr. 03, 1992
Publication date: Jun. 28, 1994
Summary:
【要約】【目的】 流量調節器(3)およびこれに後置接続された蒸発器(5)を利用して真空内で基板上に化学的蒸気分離法(CVD法、RECVD)によってシリコン又は酸素を含む薄い層を形成するために液体特にモノマーを蒸発するための装置において、液体を簡単かつ迅速に蒸発できるようにする。【構成】 蒸発器(5)のハウジング(22)が、その表面が粗くて多孔質であるか少なくとも部分的に通気性を有して形成されている蒸発体(12)を有している。
Claim (excerpt):
流量調節器(3)およびこれに後置接続された蒸発器(5)を利用して真空内で基板上に化学的蒸発分離法によってシリコン又は酸素を含む薄い層を製造するために液体特にモノマーを蒸発するための装置において、蒸発器(5)のハウジング(22)が、その表面が粗くて多孔質であるか少なくとも部分的に通気性を有して形成されている蒸発体(12)を有していることを特徴とする液体蒸発装置。
IPC (4):
H01L 21/205
, C23C 14/22
, F22B 3/02
, H01L 21/31
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