給水システム

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：大塚明博 , 小林保 , 小島猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004103269
Publication number (International publication number)：2005288219
Application date： Mar. 31, 2004
Publication date： Oct. 20, 2005
Summary：

【課題】熱機器、水処理機器等の機器内へ供給された給水のpHの低下による腐食を抑制することができる給水システムを提供する。【解決手段】熱機器としてのボイラ2へ給水を供給するための給水システム3であって、給水を流す給水ライン4と、給水ライン4に設けられ、ボイラ2の腐食を引き起こす腐食促進成分を捕捉する濾過部材により濾過処理する濾過処理部8と、濾過処理部8の上流側の給水ライン4を流れる給水を濾過処理部8の下流側の給水ライン4へバイパスさせるバイパスライン10と、バイパスライン10に設けられた開閉弁11と、濾過処理部8の下流側を流れボイラ2へと供給される給水が所定のMアルカリ度となるよう開閉弁11を開閉制御する制御部14とを備えて構成した。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

機器へ給水を供給するための給水システムであって、前記給水を流す給水ラインと、該給水ラインに設けられた濾過処理部と、該濾過処理部をバイパスするバイパスラインと、該バイパスラインに設けられた開閉弁と、前記濾過処理部の下流側を流れる給水が所定のMアルカリ度となるよう前記開閉弁を開閉制御する制御部と、を備えて構成することを特徴とする給水システム。

IPC (5)：

C02F1/44 , B01D19/00 , B01D61/20 , C02F1/20 , C23F14/00

FI (6)：

C02F1/44 E , B01D19/00 H , B01D19/00 101 , B01D61/20 , C02F1/20 A , C23F14/00

F-Term (39)：

4D006GA06 , 4D006GA07 , 4D006GA32 , 4D006JA59Z , 4D006KA01 , 4D006KA16 , 4D006KA33 , 4D006KA52 , 4D006KA57 , 4D006KA72 , 4D006KB11 , 4D006KB12 , 4D006KB14 , 4D006KB17 , 4D006KD26 , 4D006KE19P , 4D006KE22Q , 4D006KE30Q , 4D006MC45 , 4D006MC54 , 4D006PB02 , 4D006PB06 , 4D006PC31 , 4D011AA17 , 4D011AD03 , 4D037AA08 , 4D037BA23 , 4D037BB07 , 4D037CA01 , 4D037CA02 , 4D037CA03 , 4D037CA15 , 4K062AA10 , 4K062BA11 , 4K062CA10 , 4K062EA08 , 4K062FA04 , 4K062FA06 , 4K062GA01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-057510 Applicant：三浦工業株式会社

Cited by examiner (9)

特開平3-080991
復水濾過装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-115189 Applicant：オルガノ株式会社
特開昭59-120893

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