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J-GLOBAL ID：200903060459612775

感放射線性樹脂組成物、パターン状樹脂膜を有する基板の製造方法、及び該樹脂組成物の利用

Inventor： 小出村 順司 ,  東 広和
Applicant, Patent owner： 日本ゼオン株式会社
Agent (1)： 西川 繁明
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2003006599
Publication number (International publication number)：WO2003100524
Application date： May. 27, 2003
Publication date： Dec. 04, 2003
Summary：

脂環式オレフィン樹脂、酸発生剤、架橋剤、特定の構造を有するフェノール化合物、及び溶剤を含有し、低誘電率で、透明性、耐熱変色性、解像度、残膜率、パターン形状などに優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物。該感放射線性樹脂組成物を用いて、パターン状の樹脂膜を有する基板を製造する方法。

Claim (excerpt)：

(A)脂環式オレフィン樹脂、 (B)酸発生剤、 (C)架橋剤、 (D)下記式(1)

IPC (6)：

G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (6)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/022 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 501 ,  H01L21/30 502R