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J-GLOBAL ID：200903060469267618

アクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路

Inventor： 田谷 昌人 ,  林田 茂 ,  森田 正樹
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994175826
Publication number (International publication number)：1996041332
Application date： Jul. 27, 1994
Publication date： Feb. 13, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】耐熱性に優れ、かつ光スイッチングや変調等の光信号処理に優れたアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路を提供する。【構成】フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)(式中、R1、R2、R3及びR4は各々独立して非置換若しくは置換複素環基等を示し、R3及びR4が共に水素原子であるものは含まない)で表されるヒドラゾン化合物、一般式(II)(式中、R5及びR6は各々独立して非置換若しくは置換複素環基等を示し、R5とR6又はR7とR8が共に水素原子であるものは含まず、R5とR6又はR7とR8で、炭化水素環基又は複素環基を形成してもよい)で表されるアジド化合物又は一般式(III)(式中、R9は電子受容性基を示し、R10はアルキル基を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物、これを用いたアクティブ光導波路の製造法及びアクティブ光導波路。

Claim (excerpt)：

フッ素化ポリアミド酸及び電気光学材料を含むアクティブ光導波路用組成物であって、電気光学材料が一般式(I)【化1】(式中、R1、R2、R3及びR4は各々独立して非置換若しくは置換複素環基、非置換若しくは置換アリール基、非置換若しくは置換アラルキル基、非置換若しくは置換アルキル基又は水素原子を示し、R3及びR4が共に水素原子であるものは含まない)で表されるヒドラゾン化合物、一般式(II)【化2】(式中、R5及びR6は各々独立して非置換若しくは置換複素環基、非置換若しくは置換アリール基、非置換若しくは置換アラルキル基、非置換若しくは置換アルキル基又は水素原子を示し、R5とR6又はR7とR8が共に水素原子であるものは含まず、R5とR6又はR7とR8で、炭化水素環基又は複素環基を形成してもよい)で表されるアジド化合物又は一般式(III)【化3】(式中、R9は電子受容性基を示し、R10はアルキル基を示す)で表される化合物であるアクティブ光導波路用組成物。

IPC (7)：

C08L 79/08 LRB ,  C08K 5/15 ,  C08K 5/24 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/03 501 ,  G02F 1/313

FI (3)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 J