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J-GLOBAL ID：200903060476617608

レジスト現像方法および装置

Inventor： 田中 稔彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993247709
Publication number (International publication number)：1995106226
Application date： Oct. 04, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：

【要約】【構成】水を滴下する機構と、水より表面張力が小さく且つ乾燥により完全に揮発させることができる液体を滴下する機構からなる現像液のリンス機構を有する。【効果】レジストパターン、特に密集した微細なレジストパターンやアスペクト比の高いレジストパターンのパターン倒れを防止できる。

Claim (excerpt)：

レジスト膜に所望のパターンを露光し、その後、現像及びリンスを行った後、リンス液を乾燥させて所望のレジストパターンを形成するレジスト現像方法において、水によるリンスを行う工程と、前記水を乾かすことなく水より表面張力が小さく乾燥時に完全に揮発するリンス液に置換する工程と、前記リンス液を乾燥させる工程を順次行うことを特徴とするレジスト現像方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30

FI (3)：

H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 E ,  H01L 21/30 569 C