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J-GLOBAL ID:200903060495432147

ビスマス層状化合物の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992256425
Publication number (International publication number):1994107448
Application date: Sep. 25, 1992
Publication date: Apr. 19, 1994
Summary:
【要約】【目的】ホットプレスより簡単な方法で、ビスマス層状化合物の分極容易軸の配向性を高める。【構成】成形工程において、成形体を200MPa以上の圧力で一軸加圧する。成形時に強い圧力を一軸にかけることにより、成形体に残留応力が発生し、その残留応力が残った状態で焼結されるため、焼結時には結晶粒子が分極容易軸が加圧方向と直角方向となるように配向して焼結される。したがって圧電特性が向上する。
Claim (excerpt):
ビスマス層状化合物となる組成比で複数の原料を混合して粉末原料とする混合工程と、該粉末原料から成形体を形成する成形工程と、該成形体を焼結して焼結体とする焼結工程と、からなるビスマス層状化合物の製造方法において、前記成形工程では該成形体を200MPa以上の圧力で一軸加圧することを特徴とするビスマス層状化合物の製造方法。
IPC (2):
C04B 35/00 ,  C04B 35/46

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