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J-GLOBAL ID：200903060503272472
剥離剤組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩出 真一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992109323
Publication number (International publication number)：1993281753
Application date： Apr. 02, 1992
Publication date： Oct. 29, 1993
Summary：
【要約】【構成】 アルカノールアミン化合物、スルホン化合物又はスルホキシド化合物、及びヒドロキシ化合物からなる、フォトレジスト剥離剤組成物。【効果】 フォトレジストの剥離、安全性及び作業性に優れ、また、金属膜を有する基板に対しても腐食を起こさない。
Claim (excerpt)：
基板上に塗布されたフォトレジスト膜を剥離するための剥離剤組成物において、(a) 一般式 H3-n N((CH2 )m OH)n (ただし、mは2又は3の数を示し、nは1、2又は3の数を示す。)で表されるアルカノールアミン化合物、(b) 一般式 R1 -SO2 -R2 又はR1 -SO-R2 (ただし、R1 及びR2 はそれぞれ独立に炭素数1もしくは2のアルキル基、又は相互に結合して形成する炭素数4、5もしくは6の環状アルキレン基を示す。)で表されるスルホン化合物又はスルホキシド化合物、及び(c) 一般式 C6 H6-n (OH)n (ただし、n=1、2又は3)又はC6 H6-m-n (OH)n Rm (ただし、n=1、2、又は3、m=1又は2で、環状アルキレン基にヒドロキシ基及びアルキル基又はアルコキシ基が付加されたもの。)で表されるヒドロキシ化合物、からなることを特徴とする剥離剤組成物。
IPC (3)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H05K 3/06
Cited by examiner (7)
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